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클린룸 오븐
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클린룸 오븐

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클린룸 오븐은 미립자 또는 미생물 오염 물질을 유입시키지 않고 오염에 민감한 제품의 가열, 건조, 경화 및 베이킹을 수행하도록 설계된 제어된 청정 환경을 위해 설계된 특수 열처리 장비입니다. 고효율 공기여과 시스템과 저탈가스 소재를 탑재해 작동 중 엄격한 클린룸 기준(클래스 10~클래스 1000)을 유지하므로 반도체 제조, 의약품 생산, 정밀 전자 조립 등 제품 순도가 수율과 품질에 직접적인 영향을 미치는 산업에 없어서는 안 될 제품입니다.
  • DBT-273

  • 댄블

가용성:
수량:

개요
클린룸 생산 라인의 핵심 장비인 클린룸 오븐은 고급 열 제어 기술과 오염 방지 설계를 통합합니다. 이는 입자 방출 위험이 있는 기존 오븐을 대체하여 매우 깨끗한 조건에서 열 처리(건조, 경화, 어닐링)가 수행되도록 보장합니다. 오븐의 구조와 재료는 GB/T36066—2025 클린룸 장비 표준을 준수하여 고정밀 제조 및 R&D 시나리오에 대한 안정적인 지원을 제공합니다.
핵심 기능
  • 울트라 클린 성능: H14 HEPA 필터(공기 교체율 ≥20회/시간)와 모서리가 매끄럽고 둥근 스테인리스 스틸(316L) 내부 챔버가 장착되어 입자 축적을 최소화하고 클래스 10-1000 청정 등급(클래스 1에 맞게 맞춤화 가능)을 보장합니다. 작동 중 입자 수 <0.5μm 입자 ≤10pcs/ft3.

  • 정밀한 열 제어: RT+10℃~300℃(옵션 최대 500℃)의 온도 범위와 ±1℃의 온도 균일성을 갖춘 PID 마이크로프로세서 제어 시스템을 채택합니다. 복잡한 가열 공정을 위해 프로그래밍 가능한 온도 곡선(최대 10개 세그먼트)을 지원합니다.

  • 오염 방지 설계: 가스 방출이 적은 단열재, 실리콘이 없는 씰, 가열 도어 유리(응축 방지)로 2차 오염을 방지합니다. 난류로 인한 입자 교란 없이 균일한 온도를 보장하도록 공기 흐름이 최적화되었습니다.

  • 안전 및 규정 준수: 과열 경보(±5℃ 편차), 과압 보호 및 도어 인터록 시스템을 갖추고 있습니다. 내부 챔버는 제약 GMP 요구 사항을 충족하기 위해 멸균이 쉽습니다(UV 멸균과 호환 가능).

  • 유연한 구성: 벤치탑(50L-200L) 및 워크인(1000L-10000L) 모델로 제공됩니다. 옵션 기능으로는 질소 퍼지 시스템(산소에 민감한 재료용) 및 RS485 데이터 인터페이스(배치 추적용)가 있습니다.

일반적인 응용 분야
  • 반도체 산업: 웨이퍼의 포토레지스트 건조, 반도체 패키징 재료 경화, 정밀 전자 부품 어닐링 등은 입자로 인한 결함을 방지하여 칩 수율을 향상시키는 데 중요합니다.

  • 제약 및 의료: 제약 분말 건조, 의료 기기 부품 멸균, 생체광전자재료 경화 등 멸균 생산 표준을 준수합니다.

  • 정밀 전자공학: LCD 패널 부품 처리, 커패시터 전해질 건조, 회로 기판의 접착제 경화를 통해 습기로 인한 성능 저하를 방지합니다.

  • 항공우주: 구조적 안정성과 표면 품질을 보장하기 위해 깨끗한 환경에서 정밀 금속 부품을 열처리하고 복합 재료를 경화합니다.


모델  내부(WxHxD) 외관(WxHxD) 리터 히터kW 앰프 전압 온도 범위 청결
DBT-273C 650mm*700mm*600mm
(25.59'*27.56'*23.62')

950mm*1365mm* 1230m

(37.4'*53.74'*48.43')

273 4KW 8A 380/3/50 주변 -250°C 클래스1000
DBT-504C

700mm*900mm* 800mm

(27.56'*35.43'*31.5')

1000mm*1560mm1430mm

(39.37'*61.42'*56.3')

504 7KW 14A 380/3/50 주변 -250°C 클래스1000
DBT-910C

1300mm*1000mm*700mm

(51.18'*39.37'*27.56')

1600mm*1665mm*1330mm
 (62.99'*65.55'*52.36')
910 10.5KW 21.5A 380/3/50 주변 -250°C 클래스1000




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