O Forno para Sala Limpa é um equipamento especializado de processamento térmico projetado para ambientes limpos controlados, projetado para realizar aquecimento, secagem, cura e cozimento de produtos sensíveis à contaminação sem a introdução de partículas ou poluentes microbianos. Equipado com sistemas de filtragem de ar de alta eficiência e materiais com baixa emissão de gases, ele mantém rígidos padrões de sala limpa (Classe 10 a Classe 1000) durante a operação, tornando-o indispensável para indústrias onde a pureza do produto impacta diretamente o rendimento e a qualidade, como fabricação de semicondutores, produção farmacêutica e montagem de eletrônicos de precisão.
Como equipamento crítico em linhas de produção de salas limpas, nosso Forno para Salas Limpas integra tecnologia avançada de controle térmico com design de prevenção de contaminação. Ele substitui os fornos tradicionais que apresentam risco de emissão de partículas, garantindo que o processamento térmico (secagem, cura, recozimento) seja conduzido em condições ultralimpas. A estrutura e os materiais do forno estão em conformidade com os padrões de equipamentos para salas limpas GB/T36066—2025, fornecendo suporte confiável para cenários de fabricação e P&D de alta precisão.
Recursos principais
Desempenho Ultra-Clean: Equipado com filtros HEPA H14 (taxa de troca de ar ≥20 vezes/hora) e câmara interna de aço inoxidável (316L) com cantos arredondados suaves, minimizando o acúmulo de partículas e garantindo grau de limpeza Classe 10-1000 (personalizável para Classe 1). Contagem de partículas <0,5μm partículas ≤10pcs/ft³ durante a operação.
Controle térmico preciso: Adota sistema de controle de microprocessador PID com faixa de temperatura de RT+10°C~300°C (opcional até 500°C) e uniformidade de temperatura de ±1°C. Suporta curvas de temperatura programáveis (até 10 segmentos) para processos de aquecimento complexos.
Projeto de prevenção de contaminação: Materiais de isolamento com baixa emissão de gases, vedações sem silicone e vidro da porta aquecido (evita condensação) evitam contaminação secundária. O fluxo de ar é otimizado para garantir temperatura uniforme sem perturbação de partículas induzida por turbulência.
Segurança e conformidade: Equipado com alarme de temperatura excessiva (desvio de ± 5 ℃), proteção contra sobrepressão e sistema de intertravamento de porta. A câmara interna é fácil de esterilizar (compatível com esterilização UV) para atender aos requisitos farmacêuticos de GMP.
Configuração flexível: Disponível nos modelos de bancada (50L-200L) e walk-in (1000L-10000L). Os recursos opcionais incluem sistema de purga de nitrogênio (para materiais sensíveis ao oxigênio) e interface de dados RS485 (para rastreabilidade de lote).
Campos de aplicação típicos
Indústria de semicondutores: secagem de fotorresistentes em wafers, cura de materiais de embalagem de semicondutores e recozimento de componentes eletrônicos de precisão – fundamental para melhorar o rendimento do chip, evitando defeitos induzidos por partículas.
Farmacêutico e Médico: Secagem de pós farmacêuticos, esterilização de componentes de dispositivos médicos e cura de materiais biooptoeletrônicos - em conformidade com padrões de produção estéreis.
Eletrônica de Precisão: Processamento de componentes de painéis LCD, secagem de eletrólitos de capacitores e cura de adesivos em placas de circuito, evitando falhas de desempenho induzidas por umidade.
Aeroespacial: Tratamento térmico de peças metálicas de precisão e cura de materiais compósitos em ambientes limpos para garantir estabilidade estrutural e qualidade de superfície.
