เตาอบห้องสะอาด

ประสิทธิภาพการทำความสะอาดเป็นพิเศษ: ติดตั้งตัวกรอง H14 HEPA (อัตราการเปลี่ยนแปลงอากาศ ≥20 ครั้ง/ชั่วโมง) และห้องด้านในทำจากสแตนเลส (316L) ที่มีมุมโค้งมนเรียบ ลดการสะสมของอนุภาค และรับประกันเกรดทำความสะอาดคลาส 10-1000 (ปรับแต่งเป็นคลาส 1) จำนวนอนุภาค <0.5μm อนุภาค ≤10pcs/ft³ ระหว่างการทำงาน

การควบคุมความร้อนที่แม่นยำ: ใช้ระบบควบคุมไมโครโปรเซสเซอร์ PID ที่มีช่วงอุณหภูมิ RT+10°C~300°C (อุปกรณ์เสริมสูงถึง 500°C) และความสม่ำเสมอของอุณหภูมิ ±1°C รองรับกราฟอุณหภูมิที่ตั้งโปรแกรมได้ (สูงสุด 10 ส่วน) สำหรับกระบวนการทำความร้อนที่ซับซ้อน

การออกแบบป้องกันการปนเปื้อน: วัสดุฉนวนที่มีก๊าซออกต่ำ ซีลไร้ซิลิโคน และกระจกประตูที่ให้ความร้อน (ป้องกันการควบแน่น) หลีกเลี่ยงการปนเปื้อนทุติยภูมิ การไหลเวียนของอากาศได้รับการปรับให้เหมาะสมเพื่อให้แน่ใจว่าอุณหภูมิจะสม่ำเสมอโดยไม่มีการรบกวนของอนุภาคที่เกิดจากความปั่นป่วน

ความปลอดภัยและการปฏิบัติตามข้อกำหนด: ติดตั้งสัญญาณเตือนอุณหภูมิเกิน (ส่วนเบี่ยงเบน ±5°) การป้องกันแรงดันเกิน และระบบล็อคประตู ห้องด้านในฆ่าเชื้อได้ง่าย (เข้ากันได้กับการฆ่าเชื้อด้วยรังสียูวี) เพื่อให้เป็นไปตามข้อกำหนด GMP ทางเภสัชกรรม

การกำหนดค่าที่ยืดหยุ่น: มีจำหน่ายในรุ่นตั้งโต๊ะ (50L-200L) และรุ่น Walk-in (1000L-10000L) คุณสมบัติเสริม ได้แก่ ระบบกำจัดไนโตรเจน (สำหรับวัสดุที่ไวต่อออกซิเจน) และอินเทอร์เฟซข้อมูล RS485 (สำหรับการตรวจสอบย้อนกลับเป็นชุด)

อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์: การทำแห้งด้วยแสงบนแผ่นเวเฟอร์ การบ่มวัสดุบรรจุภัณฑ์เซมิคอนดักเตอร์ และการอบอ่อนชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์ที่มีความแม่นยำ ซึ่งมีความสำคัญอย่างยิ่งในการเพิ่มผลผลิตของชิปโดยการหลีกเลี่ยงข้อบกพร่องที่เกิดจากอนุภาค

เภสัชกรรมและการแพทย์: การอบแห้งผงยา การฆ่าเชื้อส่วนประกอบของอุปกรณ์ทางการแพทย์ และการบ่มวัสดุออปโตอิเล็กทรอนิกส์ชีวภาพ ซึ่งเป็นไปตามมาตรฐานการผลิตที่ปลอดเชื้อ

พรีซิชั่นอิเล็กทรอนิกส์: การประมวลผลส่วนประกอบแผง LCD การอบแห้งอิเล็กโทรไลต์คาปาซิเตอร์ และการบ่มกาวบนแผงวงจร เพื่อป้องกันความล้มเหลวด้านประสิทธิภาพที่เกิดจากความชื้น

การบินและอวกาศ: ชิ้นส่วนโลหะที่มีความแม่นยำในการอบชุบความร้อนและการบ่มวัสดุคอมโพสิตในสภาพแวดล้อมที่สะอาดเพื่อให้มั่นใจถึงความเสถียรของโครงสร้างและคุณภาพพื้นผิว