Präzise thermische Verarbeitung in kontrollierten Vakuumumgebungen
Überblick
Unser Vakuumofen mit niedrigem Druck ist für fortschrittliche thermische Verarbeitungsanwendungen ausgelegt, die Bedingungen mit niedrigem Druck (Vakuum) und präziser Temperaturkontrolle erfordern . Es wird in Branchen wie Elektronik, Luft- und Raumfahrt, Batterien und Materialwissenschaften häufig eingesetzt, in denen die Prävention, das schnelle Trocknen und die kontrollierte Wärmebehandlung von entscheidender Bedeutung sind.
Schlüsselmerkmale
✔ Vakuumumgebungskontrolle
✔ präzise Temperaturregelung
Breiter Temperaturbereich: RT ~ 250 ° C (oder höher, anpassbar).
Erweiterter PID -Controller für stabile und gleichmäßige Erwärmung.
✔ Effiziente Trocknung und Dehydration
✔ Verhinderung übertreffen
Entfernt eingeklemmte Gase aus Materialien und verbessert die Produktreinheit und Leistung der Produkte.
Wesentlich für Elektronik, Batterien und Luft- und Raumfahrtkomponenten.
✔ Sicherheit und Zuverlässigkeit
Übertemperaturschutz , Vakuum-Leckage-Erkennung und Druckentlastungsventile.
Korrosionsbeständige Kammermaterialien für langfristige Haltbarkeit.
✔ Vielseitige Anwendungen
Elektronik : Lötanlagen, Komponentenentrocknung, Einkapselung.
Batterien : Elektrodentrocknung, Elektrolytfüllung.
Materialswissenschaft : Polymerhärtung, Metallwärmebehandlung.
Forschungslabors : Chemische Synthese, Probenvorbereitung.
Spezifikation
| Produktname |
Vakuumofen Niederdruck |
Volumen |
1000L |
| Modell |
DBGN-1000 |
| Innenabmessungen |
1000 × 1000 × 1000 mm · (w*d*h) |
| Außenabmessungen |
1550 × 1600 × 2100 mm · (W*D*H) |
| Temperaturbereich |
RT + 10 ℃ ~ + 120 ℃ Häufige Temperatur: 60 ℃ |
| Heizrate |
RT+10 ℃ ~+120 ℃ · ≤ 50 min (unter normalem Druck) (Volldurchschnitt) |
| Temperaturabweichung |
± 2,0 ℃ · (unter atmosphärischem Druck) |
| Temperatur Gleichmäßigkeit |
± 2,0 ℃ · (unter atmosphärischem Druck) |
| Temperaturschwankung |
± 0,5 ℃ · (unter atmosphärischem Druck) |
| Luftdruckregelungsbereich |
unter atmosphärischem Druck ～ 30 kPa |
| Druckpräzision |
± 2 kPa (bei atmosphärischem Druck ~ 40 kPa), ± 5% (bei 40 kPa ~ 4 kPa), ± 0,1 kPa (bei 4 kPa ~ 1 kPa) |
| Arbeitsgeräusch |
65db |
| Magnetischer Flüssigkeitskühlmodus |
Hydrokooling |
Warum wählen Sie unseren Vakuumofen mit niedrigem Druck?
✅ Branchenführende Technologie : Konstruktion von hoher Präzision und Zuverlässigkeit.
✅ Anpassbare Lösungen : Schneiderung, Temperatur und Kammergröße für spezifische Bedürfnisse.
✅ Globale Unterstützung : Professionelle Installation, Schulung und After-Sales-Service.
Anwendungen Highlight
Elektronik : verhindert Oxidation während des Lötungs- und Komponentenbaugruppe.
Batterien : Gewährleistet eine gleichmäßige Trocknung von Elektroden für eine optimale Leistung.
Luft- und Raumfahrt : Entfernt flüchtige Verunreinigungen aus kritischen Komponenten.
Forschung : Ermöglicht kontrollierte chemische Reaktionen und Materialtests.
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